Выставка SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY 2011 проводится c 19 по 22 сентября в городе Монтерей, США.

Экспонируемые продукты и разделы выставки Вы можете посмотреть ниже, в блоке «Дополнительная информация». Основные тематические направления: Электроника, Медицина, Наука и новые технологии . Полный список участников SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY 2011 размещается на официальном сайте выставки и постоянно обновляется. Там же вы сможете найти экспонентов предыдущего года. Деловая программа SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY 2011 обычно публикуется ближе к началу события.

Анонсы деловых событий в Telegram

Планируете поездку на выcтавку SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY 2011?

Как добраться до выставочного центра можно посмотреть в каталоге мест или на официальном сайте площадки. Пользуйтесь также картами  Google Maps, которая позволяет строить маршруты с использованием общественного транспорта.  Не забудьте проверить место и даты выставки на официальном сайте и в календаре выставочного комплекса. Событие могут перенести, отменить, объединить с проектом схожей тематики.

Есть конкретный вопрос о выставке  SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY 2011?

Обратитесь напрямую к организатору! Обращаем ваше внимание на то, что Expomap не является организатором события и не несет ответственности за неточности предоставляемой информации. Сайт события можно найти в разделе «Дополнительная информация» или же в поиске Яндекс/Google.

Вы - организатор этой выставки?

Хотите получать участников и посетителей с нашего сайта? Используйте рекламные возможности Expomap! Аудитория сайта - более 300 000 человек в месяц, которые ищут деловые события для решения своих бизнес-задач. Подробнее>>>