SPIE Photomask Technology 2024 - конференция по вопросам разработки шаблонов

Конференция SPIE Photomask Technology 2024 проходит c 29 сентября по 3 октября в городе Монтерей, США.

Событие объединит экспертов и специалистов таких направлений, как Управление контентом, Управление данными, Программная инженерия, Графические технологии, Программные продукты, Разработка ПО, Software Engeneering.

Деловая программа обычно включает несколько потоков или секций и публикуется на сайте мероприятия вместе со списком спикеров. Найти официальный сайт события можно ниже в разделе "Дополнительная информация" или в поисковых системах Яндекс и Google.

Сохранить событие в расписание 

Добавьте конференцию SPIE Photomask Technology 2024 в расписание, чтобы не потерять важное событие, где встречаются профессионалы нужной вам отрасли. Создавайте свое расписание мероприятий.

Планируете самостоятельную поездку на конференцию SPIE Photomask Technology 2024?

Перед посещением уточняйте даты и место проведения на официальных ресурсах и напрямую у организатора  — возможны перенос или изменения. Expomap не является организатором события и не несет ответственности за неточности предоставляемой информации.

Организуете деловые события? 

Привлекайте участников с помощью рекламных инструментов Expomap! Аудитория сайта - более 300 000 человек в месяц, которые ищут деловые события для решения своих бизнес-задач. 

УЗНАТЬ О ВОЗМОЖНОСТЯХ ПРОДВИЖЕНИЯ